上海塞普申請粒料質量檢測設備及方法專利，能構建消除僞目標的圖像採集環境

金融界 2024 年 12 月 9 日消息，國家知識產權局信息顯示，上海塞普機電工程技術有限公司申請一項名爲“粒料質量檢測設備及方法”的專利，公開號 CN 119086585 A，申請日期爲 2024 年 7 月。

專利摘要顯示，本申請公開一種粒料質量檢測設備及方法，所述粒料質量檢測設備包括：機座，包括用於放置待檢粒料的透光檯面以及位於透光檯面下側的容納空間；光源組件，設置在容納空間中，用於提供第一強度光線和第二強度光線；光柵組件，與透光檯面相平行地設置在容納空間中，並位於光源組件與透光檯面之間，設置有對應待檢粒料的粒徑的用於分割光源組件所提供的光線的明暗條紋；反光罩，設置在攝像裝置與透光檯面之間，具有對應攝像裝置的視窗，用於反射被分割後的透射光線從而形成多角度反射光線以利用多角度反射光線及被分割後的透射光線構建消除僞目標的圖像採集環境；以及攝像裝置，懸設於透光平臺的上側用以攝取待檢粒料的檢測圖像。

本文源自：金融界

作者：情報員